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      消失模涂料法墨用高分子將充分漫漬

        消失模涂料法墨用高分子將充分漫漬

        (1)腐蝕的原因  消失模涂料許多石建筑是由石灰石(硝酸露)威合髓的石灰石(碳酸鈣和碳配攫)掏成。這兩種石灰石對學腐蝕十分酸0,腐蝕的因裹有如下幾點:

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       、侔  當天氣處于十分聞沮的槽況下,消失模涂料由霜引起的酸壞作用,僅限于常妥瓤凍影狗的那部分結構,而在建筑結構的量糟和隨配量之間,卻是很難受到霜的破壞作用的。

       、诖髿庵械亩然,消失模涂料在石灰石的氣孔中,產生硫酸鈣和在髓灰石中產生的硫酸鎂和硫酸鈣引起鹽的結晶。這些巴類的重復結晶結果,消失模涂料導致石頭表面產生風化及探的空定。在英BI涉及二氧化磕的這-反應是引起建筑物破裂的置賽原因.

       、诤克猁}的镕解由雨水中的二氧化撩所引起,形成水溶性的碳酸雹鈉和碳酸氫鎂。

        (2)防護處理  在早期,石頭的肪腐蝕處理是用防水劑,勿樹腦乳核、量和其救材料酌應99但未獲得成鞏鷹為露用的防水闌徐魔缺乏足夠的厚度;消失模涂料不足以量止水的透,不同的膨脹效應9g速了該涂量的破裂。

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        消失模涂料較新的方法墨用高分子樹監镕藏將石頭充分漫漬,或在蔚頭的丑陋零,利用不镕性無視苞英的沉淀作用進行妨護,P2加介紹了這一方法。通過使用合適豹單缽對石瞬進行櫻遺,以便獲撂攝魔仍簇透,隨后就地進行聚合而成樹指。感耀的單體是酉慧窿酮類。環氟比物英涼烷霓基慧烷類。

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        消失模涂料方法是使鋇鹽在石灰石9b丑田中記掛。評價露露方路,對石頭露贏餡數理構效果。 


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